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上海伯东某 OEM 客户研发生产科研用真空镀膜和沉积设备. 经过伯东推荐真空部分采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 80 和高精度薄膜真空规 CMR 361 用于定制大型脉冲激光沉积 Pulsed Laser Deposition 系统. 从而实现该系统制备金属, 半导体, 氧化物, 氮化物, 碳化物, 硼化物, 硅化物, 硫化物及氟化物等各种物质薄膜和制备一些难以合成的材料膜, 如金刚石, 立方氮化物膜等.
科研定制 PLD 系统配置:
分子泵 HiPace 80 *8
薄膜真空规 CMR 361 *3
真空规 TPR 280 *1
伯东 Pfeifer 分子泵 HiPace 80 主要参数和抽气性能
型号 | HiPace 80 |
进气口 | DN 63 CF-F |
极限真空 hPa | < 5X10-10 |
氮气的压缩比 | > 1X1011 |
氮气的抽气速度 l/s | 67 |
工作电压: V DC | 24 (? 5 %) |
氮气的前级真空最大值 hPa | 22 |
重量 kg | 3.8 |
噪音 dB(A) | ≤48 |
上海伯东德国 Pfeiffer 涡轮分子泵适用于
分析仪器: 电子显微镜, 检漏, 小型质谱, 表面分析, 残余气体分析
半导体: PVD, inspection, bonding, MBE, load-locks
工业: 医学技术, 工业检漏, 隔离真空, 灯管制造
研发: 核研究, 等离子研究, 粒子加速器, 冷冻研究, 纳米技术, 生物技术
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