供应

为了获得具备电磁屏蔽能力的 PPS, PEEK等高分子轻量化材料, 但 PPS, PEEK 导电性能差、无电磁波屏蔽能力或者达不到理想的屏蔽效果, 因此, 某机构采用磁控溅射镀膜工艺对 PPS、PEEK 等材料结构件产品表面进行金属化处理.

 

其工艺主要分为前处理、镀膜、后处理等三个环节. 

 

前处理需要对 PPS/PEEK 待镀衬底面进行 Hall 离子源清洗, 该机构采用伯东 KRI 考夫曼 霍尔离子源 eh 3000 对 PPS/ PEEK 衬底面进行清洗.

 

KRI 考夫曼 霍尔离子源 Gridless eH 3000 主要技术参数:

离子源型号	霍尔离子源 eH3000
Cathode/Neutralizer	HC
电压	50-250V
电流	20A
散射角度	>45
可充其他	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
气体流量	5-100sccm
高度	6.0“
直径	9.7“
水冷	可选

 

其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1?10-5 Pa, 经推荐采用伯东经济型分子泵组 HiCube 30 Eco, 其技术参数如下： 

泵组型号	进气法兰	分子泵 型号	抽速 氮气l/s	极限真空  hPa	前级泵型号	前级泵 抽速 m?/h
Hicube 30 Eco	DN 40 ISO-KF	Hipace 30	22	1X10-7	MVP 015-2	1

 

运用结果：

1. KRI 考夫曼 霍尔离子源 eh 3000 对衬底面良好的清洗, 提高了膜层的附着力

2. 经济型分子泵组 HiCube 30 Eco快速将本底真空抽到 1?10-5 Pa, 并稳定保持整个过程的真空度

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

 

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