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伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP 380 辅助溅射镀制 Al2O3薄膜

价格:面议浏览:131次联系:张婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企业:伯东贸易(深圳)有限公司留言店铺收藏

氧化物薄膜具有优越的机械、光学性能以及良好的环境稳定性, 被广泛应用于可见近红外波段制备各种低损耗光学薄膜.

 

某国内精密光学薄膜制造商为了获得品质良好的Al2O3 薄膜, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380 和考夫曼离子源 KDC100 辅助溅射镀制 Al2O3 薄膜.

 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:

射频离子源型号

RFICP380

Discharge 阳极

射频 RFICP

离子束流

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

30 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

39 cm

直径

59 cm

中和器

LFN 2000

 

工艺简介:

该制造商采用双离子辅助镀制 Al2O3 薄膜, 其中一个离子源(KRI 考夫曼射频离子源 FRICP380)主要是用于产生高能氩离子束轰击靶材, 通过动量传递使靶材原子获得足够的动能而脱离靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉积而形成一层薄膜;

另一个辅助离子源(KRI 考夫曼离子源 KDC100)通入氧气和氩气的混合气体, 通过对生长中的薄膜的轰击, 使得薄膜进一步致密, 同时改善薄膜的化学计量比.

伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:

 离子源型号

 离子源 KDC 100 

Discharge

DC 热离子

离子束流

>400 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

12 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

2-20 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

23.5 cm

直径

19.4 cm

中和器

灯丝

* 可选: 可调角度的支架

 

其工作示意图如下:

 

运行结果:

1. 制备的薄膜在中红外波段具有高的折射率和低的消光系数, 光滑的表面特性和极低的表面散射耗损, 在2.7μm波段没有发现由于水吸收导致的消光系数的增大;

2. 制备的反射膜在2.7 μm反射率达到了99.63%, 接近于理论计算值;

3. 镀制的Al2O3 薄膜具有优良的环境稳定性.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: 86-21-5046-1322                   T: 886-3-567-9508 ext 161
F: 86-21-5046-1490                        F: 886-3-567-0049
M: 86 152-0195-1076                     M: 886-939-653-958
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