Atonarp 质谱分析仪 Aston? 半导体 CVD / ALD 应用
上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston? 为半导体生产而设计, 作为一个强大的平台, Aston? 可以取代多种传统工具, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断并在一系列应用中提供更高的控制水平, 适用于光刻, 电介质和导电蚀刻及沉积, 腔室清洁, 腔室匹配和消解.
Aston? 质谱分析仪耐受腐蚀性气体和气化污染物冷凝液, 能够在半导体生产遇到的恶劣工况下可靠运行, 与传统质量分析仪相比, 使用 Aston? 的维修间隔更长. 它包括自清洁功能, 尽可能的清除由于某些工艺中存在的冷凝物沉积而导致的污垢积累.
Aston? 质谱分析仪典型应用: 保护 CVD 工艺免受干泵故障的影响
真空泵是半导体加工厂中应用广泛的设备之一. 真空泵对于在真空环境操作下的各种化学气相沉积工艺至关重要, 这些工艺在真空下运行, 以确保在较低的加工温度下获得均匀, 保形的沉积涂层. 干泵通常是惰性且可靠的, 但在苛刻的半导体制造工艺中进行泵送时, 干泵可能会出现意外故障.
灾难性故障
电介质沉积冷凝液和苛刻的工艺气体 (如 NF3) 可能会导致性能下降或突然失效模式, 包括沉积物突然吸入, 排气堵塞, 沉积导致干泵卡死以及干泵部件的腐蚀退化. 干泵故障通常会对 10片甚至 100片在加工中的晶圆造成不可修复的损坏. 此外, 工具停机和清理可能会导致大量开支和收入损失.
CVD 工艺过程中, 已污染的干泵
上海伯东 Aston? 质谱分析仪提供解决方案
通过在故障前, 提前更换或使干泵离线, 可以减轻灾难性的真空损失, 从而提高生产线良率.
数据驱动干泵故障预测. 通过测量进入 (进气) 和排出 (排气) 干泵的气体的分子类型和质量 (分压), 可以对破坏性腐蚀或沉积物堆积进行建模. 仅气体压力和体积仅部分指示气流的腐蚀性或堵塞性. 至关重要的是流经干泵的气体成分. Aston? 质谱分析仪通过对干泵暴露在气体浓度下的情况进行建模, 并将模型与实际泵故障相关联, 可以较准确的预测干泵的预期运行寿命.
在恶劣的 CVD 环境中, Aston? 利用可操作的数据预测和预防因 PV-CVD 干泵引起的灾难性故障, 能够对破坏性腐蚀或沉积进行预测建模, 优化氮气吹扫成本.
适用场景: 多个腔室连接到 1个干泵, 高浓度的电介质会导致灾难性的泵故障 (一次损失 10-100 片的晶圆)
通过使用上海伯东 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston? 可以提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 此款质谱仪可以在新工艺腔室的组装过程中进行安装, 也可将其加装到已运行的现有腔室, 可在短时间内实现晶圆更高产量! Atonarp 质谱由统一的软件平台, 光学和质谱技术的突破性创新提供支持, 可提供实时, 可操作, 全面的分子谱分析数据.
Atonarp Aston? 质谱仪半导体行业应用
1. 介电蚀刻: Dielectric Etch
2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD
3. CVD 监测: CVD Monitoring
4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD
5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting
6. 腔室匹配: Chamber Matching
7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch
8. 小开口面积 <0.3% 蚀刻: Small Open Area <0.3% Etch
9. ALD
10. ALE
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