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上海伯东日本原装进口适合中等规模量产使用的 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C.

蚀刻均匀性: ?5%, 刻蚀速率: 20 nm/min, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却, 0-90度旋转.

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 主要优点:

1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.

2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.

3. 配置使用美国 KRI 考夫曼离子源

4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.

5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.

6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.

7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 技术参数:

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 组成:

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:

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上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐

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