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美国 KRI 霍尔离子源 eH 400

价格:面议浏览:234次联系:张婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企业:伯东贸易(深圳)有限公司留言店铺收藏

KRI 霍尔离子源 eH 400产品描述

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

尺寸: 直径= 3.7“  高= 3”

放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

美国 KRI 霍尔离子源 eH 400 产品特性:

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 400 特性:

1.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极

2.宽波束高放电电流 - 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率

3.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统

4.高效的等离子转换和稳定的功率控制

美国 KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:

KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:

型号

eH 400 / eH 400 LEHO

供电

DC magnetic confinement

- 电压

40-300 V VDC

- 离子源直径

~ 4 cm

- 阳极结构

模块化

电源控制

eHx-3005A

配置

-

- 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

- 离子束发散角度

> 45? (hwhm)

- 阳极

标准或 Grooved

- 水冷

前板水冷

- 底座

移动或快接法兰

- 高度

3.0'

- 直径

3.7'

- 加工材料

金属
电介质
半导体

- 工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

- 安装距离

6-30”

- 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder

美国 KRI 霍尔离子源 eH 400 应用领域:

KRI 霍尔离子源 eH 400 应用领域:

1.离子辅助镀膜 IAD

2.预清洁 Load lock preclean

3.In-situ preclean

4.Low-energy etching

5.III-V Semiconductors

6.Polymer Substrates

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