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随着半导体大厂先进制程芯片竞争日益升温，EUV光刻机成为市场“香饽饽”，引发业界关注。

目前，英特尔率先拿到了ASML High-NA EUV光刻机设备，并于近期宣布该台光刻机完成组装。

三星也不甘示弱，表示将与ASML EUV光刻机组件供应商蔡司联手，在EUV领域深化合作。

与此同时，ASML第二台High-NA EUV光刻机也传出交付的消息，但买家成谜。

三星与蔡司联手，深化EUV合作

韩媒报道，三星电子的执行董事长李在镕(Jay Y. Lee)近期在德国会见了蔡司总裁兼首席执行官卡尔?兰普雷希特(Karl Lamprecht)及其他公司高管。

会议上，双方同意扩大在EUV技术和尖端半导体设备研发方面的合作，

以增强两家公司在晶圆代工代工和存储芯片领域的业务竞争力。

通过这次合作，三星希望提升下一代半导体技术，优化芯片制造流程，提高先进芯片的生产良率。

蔡司还计划到2026年投资480亿韩元在韩国建设研发中心，加强同三星等韩企的战略合作。

资料显示，蔡司是光学与光电解决方案开发商，也是光刻机大厂ASML EUV光刻机独家供应商，

每台EUV光刻机中包含了三万多个由蔡司提供的组件。

蔡司在EUV技术方面拥有超过2000项核心专利，其掌握的技术可以在高性能先进芯片生产中发挥重要作用。

未来，三星电子和蔡司将进一步扩大双方在EUV技术和先进半导体设备相关领域的合作。

ASML第二台High NA EUV光刻机已交付?

近期，英特尔表示完成ASML High NA EUV光刻机的安装，已进入光学系统校准阶段。

这是ASML生产的首台High NA EUV光刻机，价值高达3.5亿欧元，英特尔计划用该款设备生产1.8nm以下的先进制程芯片。

媒体报道，除了英特尔以外，台积电、三星、美光等厂商也向ASML订购了High NA EUV光刻机。

ASML财报中透露，今年第一季度公司新增订单金额为36亿欧元，其中6.56亿欧元为EUV光刻机订单。

近期ASML对外交付了第二台High NA EUV光刻机，但未透露买家信息。

目前两台High NA EUV光刻机并无法满足市场对先进制程芯片的需求，未来ASML还计划生产更多高端光刻机设备。